第一楼文学

第33章（第3页）

-28。

次日清晨，室外温度二十六至三十摄氏度不等，室内八个空调十六摄氏度。

林暮寒的头埋在南榆雪的颈窝，声音闷闷的，还带着些鼻音：“小孩，走慢点。”

南榆雪频率未改反增，毫不客气：“嫌快滚开。”

林暮寒手搭上她的肩膀，抬起头，哦了一声，委屈道：“姐错了。”

后者一言不发，林暮寒侧面看去也只瞧见一张脸显而易见的好处是显小。

“接下来我们看到的是世界上第一套主要的电子芯片制造用具及材料。”

博物馆内，导师走在前头，手摊向玻璃柜内的设备。

那是位干练的棕发女人，身上穿着得体的西装。她边走边道：“制作电子芯片的主要用具集中在晶圆加工和前端制造这两大核心环节——”

“晶圆加工设备包括单晶炉、气相外延炉及分子束外延系统。”

“单晶炉用于熔融半导体材料并拉制单晶硅锭，需精准控制温度、旋转速度和提拉速率。气相外延炉通过化学气相沉积（cvd）在单晶表面生长薄层晶体，实现功能化准备。分子束外延系统在特定晶向的衬底上逐层生长单晶薄膜，用于精密结构制造。”

她又走了几步，高跟鞋的哒哒声在寂静的室内被放大了数百倍。

“前端制造设备内含光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积装置和离子注入机。”

“光刻机是核心设备，用于将电路图案转印到晶圆表面。euv光刻机（波长13。5nm）可实现7nm以下制程，需高速激光脉冲和精密光学系统；刻蚀设备通过化学或物理方法去除多余材料，形成精确器件结构，依赖等离子体控制技术；薄膜沉积装置包括cvd和物理气相沉积（pvd）设备，用于在晶圆表面形成导体、绝缘体或半导体薄膜。”

“离子注入机将离子加速注入硅片特定区域，精确控制电学性能。”

她突然脚步一停，抬眸便瞧见满脸写着“场外人”的林暮寒，从容笑道：“那位穿牛仔裤的女同学。”

林暮寒这人最擅长的不过是三心二意，身上的器官没一处不是分工明确。

她将视线挪去，问道：“怎么了老师？”

果然这世上没有一个负责任的老师会容忍开小差的同学。

“麻烦你来再讲一遍设备。”

这就是报复。

半秒，林暮寒应了声行啊，松开搭在南榆雪肩上的手，扭头扫了一眼。

“……”

面对着玻璃柜里新奇的设备，她有种说不上来的熟悉感。

那种感觉就好像自己真的用过。

话音刚落，周围的同学纷纷为她让出一条红毯。双手抱胸头靠在向江折身上安心睡觉的叶倾被这闹得忽然一惊，顿时从熟睡中清醒。秦帆抬眸看去，“困就再睡会。”叶倾摇头说不用。

回想了半秒，林暮寒双手背在身后，习以为常地走了几步，一字一句：“单晶炉、气相外延炉、分子束外延系统、光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积装置、离子注入机。”（）;